紫外光降解凈化設(shè)備與低溫等離子體廢氣凈化設(shè)備廢氣處理技術(shù)比較

 

UV光解凈化設(shè)備與低溫等離子體凈化設(shè)備廢氣處理技術(shù)比較該子鏈降解為CO2、H2O等低分子化合物。

 

低溫等離子體是繼固體、液體和氣體后的***四種狀態(tài)。當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的點(diǎn)火電壓時(shí)，氣體分子被分解產(chǎn)生各種離子、原子和自由基（包括電子）的混合物。雖然放電過(guò)程之中電子溫度很低，但并重粒子的溫度很高，整個(gè)系統(tǒng)呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱之為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子以及廢氣之中的污染物在很長(zhǎng)的時(shí)間之內(nèi)分解污染物，然后進(jìn)行各種反應(yīng)，達(dá)到污染物降解的目的。

 

 

 

2、 主要設(shè)備配備了有所不同的

 

UV光降解凈化設(shè)備，主要由德***技術(shù)UV燈和光催化活性纖維濾膜組成。正、負(fù)電子與氧不均衡，需要與氧分子結(jié)合產(chǎn)生臭氧。

 

低溫等離子體廢氣凈化裝置由電源和齒板放電裝置供電，產(chǎn)生低強(qiáng)度、高濃度、高能活性自由基。幾毫秒之后，危害廢氣分子的氧化還原反應(yīng)立即進(jìn)行。***多數(shù)污染物被降解成二氧化碳和水，很難處理。

 

3、 有所不同的凈化能力

UV光解凈化設(shè)備是臭氣裂解過(guò)程之中細(xì)菌的分子鍵，通過(guò)臭氧氧化破壞細(xì)菌的核酸，從而達(dá)到除臭殺菌的目的。低溫等離子體凈化器利用催化氧化劑的強(qiáng)氧化性和高吸附性，催化未經(jīng)處理的污染物和產(chǎn)生的物質(zhì)的氧化反應(yīng)，使危害廢氣經(jīng)多級(jí)凈化之后排放。

 

 

 

相似性：

I.除臭：去除揮發(fā)性有機(jī)物（VOC）、無(wú)機(jī)醇等主要污染物和各種氣味。除臭效率達(dá)95%，除臭效果******超過(guò)***家1993年頒布的污染物排放標(biāo)準(zhǔn)（gb14554-93）。

 

2、 無(wú)需添加任何物質(zhì)：只需設(shè)置相應(yīng)的排氣管和排氣功率，使臭氣通過(guò)設(shè)備進(jìn)行除臭和分解，不添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。

 

3、 適應(yīng)性強(qiáng)：適應(yīng)有所不同臭氣物質(zhì)濃度低、風(fēng)量小、除臭凈化處理，可每天時(shí)隔工作24小時(shí)，運(yùn)行平穩(wěn)可信。

 

4、 運(yùn)行成本低：無(wú)機(jī)械動(dòng)作，無(wú)噪音，無(wú)***定管理和日常維護(hù)。只需要定期檢查。這臺(tái)設(shè)備的能耗很高。（每個(gè)處理量為1000立方米小時(shí)，耗電量?jī)H為0.1度左右。電能），設(shè)備風(fēng)阻很低<30pa，可節(jié)約***量廢氣能源消耗。

 

5、 無(wú)需預(yù)處理：惡臭氣體無(wú)需***定預(yù)處理，如加熱、加濕等，設(shè)備工作環(huán)境溫度-30℃-95℃，濕度40-98。

 

6、 占地面積***，設(shè)備重量輕：適用于安裝輕巧，空間狹窄，設(shè)備面積<1㎡處理風(fēng)量10000m3h等***定情況。

 

 

 

7、 進(jìn)口材料制造：防火、耐腐蝕、性能平穩(wěn)、使用壽命短。

 

8、 節(jié)能高科技產(chǎn)品：由專家和我公司工程技術(shù)人員通過(guò)專家和我公司工程技術(shù)人員長(zhǎng)期反復(fù)試驗(yàn)開發(fā)的低科技環(huán)保凈化產(chǎn)品，能完全分解異味。該氣體有毒危害，可達(dá)到除臭效果。惡臭氣體經(jīng)分解之后，全然實(shí)現(xiàn)無(wú)害化排放，無(wú)二次污染，同時(shí)達(dá)到消毒滅菌的效果。

 

因此，結(jié)合低溫等離子體廢氣凈化設(shè)備和惡臭氣體紫外光解凈化設(shè)備的***點(diǎn)。它們分為兩個(gè)區(qū)域：紫外光解和低溫等離子體分解。惡臭氣體***先通過(guò)紫外光解區(qū)進(jìn)入低溫等離子體，然后經(jīng)過(guò)多個(gè)階段。凈化之后達(dá)標(biāo)排放！